LEF200W系列 双波段激光直接成像干膜光阻剂

AQUA MER LEF200W系列是一种高性能、全水溶性的干膜光阻剂，应用于内外层线路制作，特别适用于365nm波长或365nm&405nm激光直接成像系统。

特色及优点

 · 高解析度 — 1～2 mil 线宽/线距

 · 曝光速度快

 · 附着力好

 · 抗化学性好

 · 性能稳定

*1：LEF212W（SST=6/21)：采用Stouffer21格曝光尺，推荐硬化格数6～8，天准LDI曝光机制作（TZDI-06D310）

*2：1.0wt% Na₂CO₃, 30℃, 显影停留时间=最短显影时间x2

*3：LEF212W分辨率、解析度以及显影后SEM图像（参照下图）