MA300系列干膜光阻剂
AQUA MER MA300干膜光阻剂是一种高性能、全水溶性的干膜光阻剂，特别适用于外层电镀的应用。特别针对最高可能一次合格率而设计，在盖孔&蚀刻和酸性电镀工艺中有出色的性能。
特色及优点
- 极好的贴合度 - 高良率
- 盖孔能力优异
- 显影后边墙垂直/电镀后边墙垂直
- 显影泡沫少
- 高解析度、高附着力
- 应用于酸性镀铜工艺时无渗镀现象
- 化学物质渗镀少
- 褪膜性能好 - 膜屑颗粒小
- 褪膜速度快
*1：MA315（SST=7/21)：采用Stouffer21格曝光尺，推荐硬化格数的中心值的曝光能量，海圣平行光曝光机制作（UVE-HSP5K-11）
*2：1,0wt%Na2CO3, 30℃, 最短显影时间×2
*3：电镀后边墙，电镍金后线路图像（参照下图）
