MAH200系列干膜光阻剂

AQUA MER MAH200系列是一种高性能、全水溶性的干膜光阻剂，适用于外层电镀的应用，特别针对最高可能一次合格率而设计，在盖孔&蚀刻和酸性电镀工艺中有出色的性能。

特色及优点

• 极好的贴合度 - 高良率
• 盖孔能力优异
• 显影后边墙垂直/电镀后边墙垂直
• 显影泡沫少
• 高解析度、高附着力
• 应用于酸性镀铜或镍金工艺时无渗镀现象
• 化学物质渗漏少
• 褪膜性能好 - 膜屑颗粒小
• 褪膜速度快

*1：MAH215（SST=7/21)：采用Stouffer21格曝光尺，推荐曝光尺格数6~8，海圣平行光曝光机制作（UVE-HSP5K-11）;

*2：1.0wt%Na₂CO_3, 30℃, 显影停留时间=最短显影时间×2；

*3：MAH215电镀后边墙，电镍金后线路图像（参照下图）。