MI300系列干膜光阻剂
AQUA MER MI300系列是一种高性能、全水溶性干膜光阻剂,专为要求高解析度、高良率的精细线路应用而设计,在内层酸性蚀刻工艺中有突出的表现。
特色及优点
· 高分辨率 — 1~2 mil 线宽/线距
· 优质的贴合度 — 高良率
· 高附着力 — 高良率
· 优质的图像显示对比,具备自动光学检测能力
· 特有的感光速度 — SST=7 @ 30-50mJ/cm²
*1: MI315(SST=7/21):采用Stouffer21格曝光尺,推荐曝光尺格数6~8,海圣平行光曝光机制作(UVE-HSP5K-11);
*2:1.0wt% Na2CO3, 30℃, 显影停留时间=最短显影时间×2;
*3:MI315分辨率、解析度以及显影后图像(参照下图)。