MP600系列干膜光阻剂

AQUA MER MP600干膜光阻剂特别针对高解析度线路，具有优秀的耐碱性蚀刻性能。AQUA MER MP620应用于所有电镀工艺，包括镀金。

特色及优点

• 极好的耐碱性蚀刻性能
• 高解析度
• 较好地应用于图形电镀
• 较好地应用于直接电镀
• 用于沉金电镀工艺过程
• 盖孔能力优异
• 镀金性能可达100μin

*1：MP620（SST=7/21)：采用Stouffer21格曝光尺，推荐硬化格数的中心值的曝光能量，海圣平行光曝光机制作（UVE-HSP5K-11）

*2：1wt%Na2CO3, 30℃, 最短显影时间×2

*3：50μm线边墙结构（参照下图）