LEF115M系列 双波段激光直接成像干膜光阻剂

AQUA MER LEF115M系列是一种高性能、全水溶性的干膜光阻剂，应用于内外层线路制作，特别适用于365nm波长或365nm&405nm双波段激光直接成像系统。

特色及优点

50. 高解析度 — 1.2～2 mil 线宽/线距
50. 封孔能力优异
50. 附着力好
50. 易去膜，膜屑小
50. 曝光前后颜色对比明显，便于检查

*1：LEF115M（SST=6/21)：采用Stouffer21格曝光尺，推荐级数:6-8，天准LDI曝光机制作（TZDI-06D310）；

*2：1.0wt%Na₂CO_{3  ,}30℃, 显影停留时间=最短显影时间×2；

*3：LEF115M SEM图片（下图）。