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集成电路

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MP600系列干膜光阻剂

AQUA MER MP600干膜光阻剂特别针对高解析度线路，具有优秀的耐碱性蚀刻性能。AQUA MER MP620应用于所有电镀工艺，包括镀金。

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MI300系列干膜光阻剂

AQUA MER MI300系列是一种高性能、全水溶性干膜光阻剂，专为要求高解析度、高良率的精细线路应用而设计，在内层酸性蚀刻工艺中有突出的表现。

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MAH200系列干膜光阻剂

AQUA MER MAH200系列是一种高性能、全水溶性的干膜光阻剂，适用于外层电镀的应用，特别针对最高可能一次合格率而设计，在盖孔&蚀刻和酸性电镀工艺中有出色的性能。

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MAH100系列干膜光阻剂

AQUA MER MAH100系列是一种高性能、全水溶性的干膜光阻剂，适用于外层电镀的应用，特别针对最高可能一次合格率而设计，在盖孔&蚀刻和酸性电镀工艺中有出色的性能。

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MA300系列干膜光阻剂

AQUA MER MA300干膜光阻剂是一种高性能、全水溶性的干膜光阻剂，特别适用于外层电镀的应用。特别针对最高可能一次合格率而设计，在盖孔&蚀刻和酸性电镀工艺中有出色的性能。

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MA300F系列干膜光阻剂

AQUA MER MA300F系列是一种高性能、高效率、全水溶性的干膜光阻剂，适用于PCB内层和外层的应用。本产品在酸性蚀刻、盖孔与蚀刻和酸性电镀制程中均有突出表现。

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LEF200W系列双波段激光直接成像干膜光阻剂

AQUA MER LEF200W系列是一种高性能、全水溶性的干膜光阻剂，应用于内外层线路制作，特别适用于365nm波长或365nm&405nm激光直接成像系统。

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LEF200T系列双波段激光直接成像干膜光阻剂

AQUA MER LEF200T系列是一种高性能、全水溶性的干膜光阻剂，应用于内外层线路制作，特别适用于365nm波长或365nm&405nm激光直接成像系统。

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